Микроэлектроника и функциональная электроника

Страница: 8/10

а

б

Рис. 1 Контактные площадки

11. Находим реальную ширину резистора на кристалле, учитывая погрешности, вызванные растравливанием окисла и боковой диффузией:

b = bтоп + 2(Dтрав + Dу)

( 5.8)

В нашем случае:

R1 - R4 :

b = 7,8 мкм

R5 :

b = 35,8 мкм

12. Определяем расчетную длину резистора:

lрасч = b(R/rS – n1k1 – n2k2 – 0,55Nизг

( 5.9)

где Nизг – количество изгибов резистора на 90°; k1, k2 – поправочные коэффициенты, которые учитывают сопротивление околоконтактных областей резистора при разных конструкциях этих областей; n1, n2 – количество околоконтактных областей каждого типа.

В нашем случае

R1 - R4 :

lрасч = 198,579 мкм

R5 :

lрасч = 284,4

13. Расчитаем длину резистора на фотошаблоне, учитывая растравливание окисла и боковую диффузию:

lпром = lрасч + 2(Dтрав + Dу)

( 5.10)

в нашем случае

R1 - R4 :

lпром = 200,84 мкм

R5 :

lпром = 286,2 мкм

14. За топологическую длину резистора lтоп берем ближайшее к lтоп значение, кратное расстоянию координатной сетки на фотошаблоне.

В нашем случае

R1 - R4 :

lтоп = 200 мкм

R5 :

lтоп = 286 мкм

15. Расчитываем реальную длину резистора на кристалле:

l = lтоп - 2(Dтрав + Dу)

( 5.11)

R1 - R4 :

l = 198,2 мкм

R5 :

l = 284,2 мкм

16. Определяем сопротивление рассчитанного резистора

Rрасч = rS ( 1/b + n1k1 + n2k2 + 0,55Nизг)

( 5.12)

В нашем случае

R1 - R4 :

Rрасч = 4732, 991 Ом

R5 :

Rрасч = 3301, 55 Ом

Погрешность расчета:

( 5.13)

В нашем случае

R1 - R4 :

DRрасч = 0,007

R5 :

DRрасч = 0,00046

Результаты расчета вполне удовлетворяют заданной погрешности.

6. Последовательность расчета МДП – конденсатора.

МДП-конденсаторы (металл-диэлектрик-полупроводник) используют в качестве диэлектрика тонкий слой (0,05…0,12 мкм) SiO2 или Si3N4 . Нижней обкладкой служит высоколегированный эмиттерный слой, верхней – пленка алюминия толщиной от 5000 до 1 мкм. Типичный МДП-конденсатор представляет собой обыкновенный плоский конденсатор, и его емкость определяется по формуле, пФ:

Реферат опубликован: 2/08/2009